به گزارش ساوت چاینا مورنینگ پست، شرکت چینی لنگ‌دائو سایِلِکس (Langdao Silex) در نمایشگاه بین‌المللی صنعت چین در شانگهای، سامانه منبع نور EUV را که به‌طور مستقل توسعه داده است، به نمایش گذاشت.
یکی از نمایندگان شرکت اعلام کرد که ۹۰ درصد قطعات این دستگاه در داخل چین تولید شده‌اند و بخش عمده قطعات اصلی آن نیز به‌صورت داخلی و توسط خود شرکت توسعه یافته‌اند.
کارکنان حاضر در نمایشگاه این نمونه اولیه را گامی تعیین‌کننده در انتقال منابع نور EUV تولید داخل از مرحله آزمایشگاهی به کاربردهای صنعتی توصیف کردند. بااین‌حال، طبق این گزارش، تولید انبوه این فناوری همچنان به سه تا پنج سال زمان نیاز دارد.
چرا منبع نور EUV برای ساخت تراشه اهمیت دارد؟
منبع نور EUV یکی از زیرسامانه‌های کلیدی تجهیزات پیشرفته لیتوگرافی است. این سامانه نور فرابنفش شدید موردنیاز برای انتقال الگوهای بسیار ریز مدارهای الکترونیکی روی ویفرهای سیلیکونی را تولید می‌کند.
فناوری لیتوگرافی EUV امکان ساخت ساختارهای بسیار کوچک و پیچیده در تراشه‌ها را فراهم می‌کند و برای تولید بسیاری از پیشرفته‌ترین نیمه‌رساناهای امروزی اهمیت اساسی دارد.
نمایش عمومی این نمونه اولیه، تصویری کم‌سابقه از پیشرفت چین در فناوری EUV ارائه می‌دهد؛ آن هم در شرایطی که این کشور، در پی جنگ فناوری میان آمریکا و چین، از دسترسی به زنجیره تأمین جهانی پیشرفته‌ترین تجهیزات ساخت تراشه محروم مانده است.
بر اساس محدودیت‌های صادراتی به رهبری واشنگتن، شرکت هلندی ASML که تنها تولیدکننده تجاری سامانه‌های لیتوگرافیEUV در جهان محسوب می‌شود، اجازه فروش این تجهیزات پیشرفته به مشتریان چینی را ندارد.
در نتیجه، تولیدکنندگان چینی تراشه ناچار شده‌اند به تجهیزات قدیمی‌تر فرابنفش عمیق (DUV) و روش‌های پیچیده چندالگوسازی متکی بمانند. این محدودیت‌ها، پژوهشگران داخلی چین را به تلاش گسترده‌تر برای توسعه مستقل فناوری EUV سوق داده است.
تردیدها درباره سرعت پیشرفت چین
با وجود پیشرفت این استارت‌آپ، برخی از مدیران ارشد صنعت نیمه‌رسانا در جهان نسبت به امکان دستیابی سریع چین به موفقیت‌های بزرگ در این حوزه تردید دارند.
کریستوف فوکه، مدیرعامل ASML، در جریان گفت‌وگویی با سرمایه‌گذاران گفت تا زمانی که مشتریان چینی همچنان به محصولات این شرکت دسترسی داشته باشند، انگیزه چندانی برای توسعه جایگزین‌های داخلی نخواهند داشت.
او همچنین تأکید کرد که چین برای رسیدن به سطح فناوری ASML هنوز «راه بسیار، بسیار طولانی» در پیش دارد.
استارت‌آپی با پشتوانه پژوهش‌های دانشگاه تسینگ‌هوا
شرکت لنگ‌دائو سایِلِکس در سال ۲۰۲۴ تأسیس شده است. بر اساس اطلاعات وب‌سایت شرکت، این استارت‌آپ از تیمی پژوهشی در آزمایشگاه تخلیه گازی و پلاسما دانشگاه تسینگ‌هوا بهره می‌برد؛ تیمی که در زمینه تولید نور EUV با استفاده از پلاسمای ایجادشده به‌وسیله لیزر تخصص دارد.
این شرکت مستقر در شانگهای تاکنون چندین دور تأمین مالی را با مشارکت سرمایه‌گذاران دولتی و بازیگران مطرح صنعتی پشت سر گذاشته است.
از جمله سرمایه‌گذاران آن می‌توان به China Fortune-Tech Capital اشاره کرد؛ بازوی سرمایه‌گذاری مرتبط با شرکت SMIC، بزرگ‌ترین تولیدکننده قراردادی تراشه چین.
لنگ‌دائو سایِلِکس یکی از معدود شرکت‌ها و مؤسسات پژوهشی چینی است که از پیشرفت در توسعه فناوری‌های پیشرفته لیتوگرافی خبر داده‌اند. بااین‌حال، هیچ‌یک از این مجموعه‌ها تاکنون به مرحله تجاری‌سازی این فناوری نرسیده‌اند.
توسعه تجهیزات داخلی در سایر مراحل ساخت تراشه
هم‌زمان، تأمین‌کنندگان داخلی تجهیزات نیمه‌رسانا در حال گسترش فعالیت خود در دیگر مراحل فرایند تولید تراشه هستند.
در نمایشگاه نیمه‌رسانای WeSemiBay که هم‌زمان در شهر شنژن برگزار شد، چند شرکت چینی از محصولات و فناوری‌های جدید خود رونمایی کردند:
- Hwatsing Technology: دستگاه کاشت یونی با جریان متوسط را معرفی کرد؛ تجهیزی که برای واردکردن یون‌های مشخص به مواد نیمه‌رسانا و تغییر ویژگی‌های الکتریکی آن‌ها استفاده می‌شود.
- Leadmicro: تجهیزات پیشرفته رسوب‌دهی لایه‌های نازک را به نمایش گذاشت.
- Piotech: از فناوری رسوب‌دهی لایه‌های کربنی برای تراشه‌های حافظه و تراشه‌های منطقی خبر داد.
افزایش سهم شرکت‌های چینی در بازار تجهیزات ساخت تراشه
بر اساس گزارشی که مؤسسه پژوهشی برنستین منتشر کرد، سیاست پکن برای بومی‌سازی فناوری‌ها و همچنین محدودترشدن عرضه برخی قطعات کلیدی از اروپا و ژاپن، شرکت‌های چینی سازنده تجهیزات نیمه‌رسانا را به استفاده هرچه بیشتر از قطعات تولید داخل سوق داده است.
برآورد این مؤسسه نشان می‌دهد که تأمین‌کنندگان داخلی چین می‌توانند تا سال ۲۰۲۸، ۵۲ درصد از بازار تجهیزات ساخت ویفر در این کشور را به دست آورند؛ درحالی‌که سهم آن‌ها در سال جاری حدود ۲۸ درصد برآورد شده است.
این روند نشان می‌دهد که تلاش چین برای خودکفایی در صنعت نیمه‌رسانا صرفاً به ساخت تراشه محدود نیست، بلکه توسعه تجهیزات، قطعات و فناوری‌های موردنیاز برای تولید آن‌ها را نیز در بر می‌گیرد.
منبع: scmp
