به گزارش ساوت چاینا مورنینگ پست، شرکت «پرینانو» مستقر در شهر هانگژو استان ژجیانگ اعلام کرد که با همکاری شرکت «شنژن لیترا تکنولوژی» توانسته ویفرهای ۸ اینچی تراشههای نوری را تولید کند و در این فرآیند «بهطور کامل» از استفاده از تجهیزات لیتوگرافی فرابنفش عمیق (DUV) اجتناب کرده است.
در این پروژه از سامانه نانوچاپ خلأ با بالشتک هوایی موسوم به PL-AS و همچنین مواد اختصاصی دولایه و فرایندهای اختصاصی استفاده شده است.
پرینانو مدعی است که این فناوری میتواند هزینه تولید تراشه را به حدود یکدهم روشهای مبتنی بر لیتوگرافی DUV کاهش دهد و در عین حال امکان تولید در مقیاس ویفر برای تراشههای فوتونیک را فراهم سازد. این نوع تراشهها در حوزههایی مانند ارتباطات نوری، حسگرها و سامانههای لیدار کاربرد گسترده دارند.
این دستاورد در شرایطی مطرح میشود که صادرات تجهیزات پیشرفته لیتوگرافی DUV و همچنین دستگاههای پیشرفتهتر لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) شرکت ASML به چین تحت محدودیتهای صادراتی قرار گرفته است. با این حال، کارشناسان همچنان درباره ارزش واقعی فناوری نانوچاپ از نظر ظرفیت تولید، میزان بازده و قابلیت استفاده در سایر انواع تراشهها تردیدهایی مطرح میکنند.
پرینانو پیشتر نیز اعلام کرده بود نخستین سامانه نانوچاپ نیمهرسانایی چین را به یک مشتری داخلی تحویل داده است؛ اقدامی که از نخستین تلاشها برای تجاریسازی این فناوری در صنعت تراشه به شمار میرفت.
فناوری نانوچاپ به جای استفاده از سامانههای اپتیکی برای تاباندن الگو روی ویفر، ساختارها را بهصورت فیزیکی روی سطح سیلیکون حک میکند. همین ویژگی باعث شده این فناوری به عنوان راهکاری برای عبور از محدودیتهای لیتوگرافی متداول مطرح شود، هرچند تجاریسازی آن در مقیاس بزرگ همواره با چالشهایی همراه بوده است.
در سال ۲۰۲۳ شرکت ژاپنی کانن نیز با معرفی یک سامانه نانوچاپ، این فناوری را دوباره در کانون توجه قرار داد و آن را جایگزینی کمهزینهتر و کممصرفتر برای برخی تجهیزات پیشرفته ASML معرفی کرد.
با این حال، نانوچاپ در کوتاهمدت تهدیدی جدی برای سلطه ASML در تولید تراشههای پیشرفته نخواهد بود. مزیت اقتصادی این فناوری به عواملی مانند سرعت تولید، ساخت قالبها، میزان نقصها و نحوه ادغام در فرایندهای صنعتی وابسته است و بعید به نظر میرسد بتواند جایگزین فناوری EUV در تولید پیشرفتهترین تراشهها شود.
به نظر میرسد تمرکز پرینانو بر حوزه محدودتر اما مهم تراشههای فوتونیک باشد؛ تراشههایی که در آنها ساختارهای نانومتری تکرارشونده مانند توریهای نوری، موجبرها و تشدیدگرهای حلقوی کاربرد فراوان دارند.
برای شرکتهای چینی، جذابیت این فناوری تنها اقتصادی نیست، بلکه بعد راهبردی نیز دارد. در شرایطی که دسترسی چین به تجهیزات پیشرفته لیتوگرافی محدود شده است، فناوریهایی که بتوانند بخشی از فرایندهای تولید تراشههای نوری را بدون نیاز به تجهیزات DUV انجام دهند، اهمیت فزایندهای یافتهاند.
این روند همچنین بخشی از تلاش گستردهتر شرکتهای فناوری چین برای یافتن مسیرهای جایگزین در برابر محدودیتهای فناوری آمریکا محسوب میشود؛ از جمله قانون مقیاسگذاری «Tau» که اخیراً توسط هواوی مطرح شده و به جای کوچکسازی ترانزیستورها بر انتقال داده در سطح سیستم، بستهبندی پیشرفته و یکپارچهسازی سهبعدی تمرکز دارد.
پرینانو اعلام کرده است که سامانه PL-AS قادر به دستیابی به دقتی کمتر از ۱۰ نانومتر و کنترل فشار در سطح ویفر است. با این حال، این شرکت هیچ اطلاعاتی درباره حجم تولید، نرخ بازده، میزان ارسال محصول به مشتریان یا دادههای مستقل برای راستیآزمایی ادعاهای خود منتشر نکرده است؛ موضوعی که ارزیابی میزان آمادگی این فناوری برای تولید تجاری گسترده را دشوار میکند.
این شرکت همچنین اعلام کرد که فناوری مذکور در تولید تراشههای ارتباطات نوری و حسگرها، از جمله تراشههای مبتنی بر نیمهرساناهای آرسنید گالیم، فسفید ایندیم و تراشههای سیلیکون فوتونیک به کار گرفته خواهد شد.
منبع: scmp
