به گزارش ساوت چاینا مورنینگ پست، وزارت صنعت و فناوری اطلاعات چین (MIIT) اعلام کرد ماشین‌های لیتوگرافی، که الگوهای مدار بسیار پیچیده را روی ویفرهای سیلیکونی چاپ می‌کنند، به پیشرفت‌های تکنولوژیکی قابل توجهی دست یافته‌اند و دارای حقوق معنوی هستند اما هنوز در بازار حضور ندارند.
یکی از ماشین‌ها لیتوگرافی فرابنفش عمیق (DUV) در طول موج ۱۹۳ نانومتر (nm)، با وضوح کمتر از ۶۵ نانومتر و دقت پوشش زیر ۸ نانومتر کار می‌کند. دستگاه DUV دیگر دارای طول موج ۲۴۸ نانومتر، با وضوح ۱۱۰ نانومتر و دقت پوشش ۲۵ نانومتری است.
این دو دستگاه هنوز از پیشرفته‌ترین گزینه‌های موجود در بازار عقب هستند. به عنوان مثال، یکی از پیشرفته‌ترین ماشین‌هایDUV شرکت ASML، سازنده تجهیزات هلندی، می‌تواند با وضوح کمتر از ۳۸ نانومتر با دقت پوشش ۱٫۳ نانومتر کار کند.
ماشین‌های DUV همچنین از ماشین‌های فرابنفش شدید (EUV) عقب هستند که از نور با طول موج ۱۳٫۵ نانومتر استفاده می‌کنند – تقریباً ۱۴ برابر واضح‌تر از DUV 195 نانومتری.
چین سال‌ها به دنبال خودکفایی فناوری در نیمه‌رساناها بوده است، اما پیشرفت این کشور در تولید سیستم‌های لیتوگرافی مورد نیاز برای تولید انبوه قابل اعتماد تراشه‌های پیشرفته کند بوده است.
تقریباً تمام دستگاه‌های لیتوگرافی چین هنوز از ASML می‌آیند، که دسترسی مشتریان چینی به دستگاه‌های پیشرفته EUV خود را قطع کرده و با فشار فزاینده‌ای از سوی ایالات متحده برای عدم دسترسی به دستگاه‌های DUV خود از مشتریان مستقر در چین مواجه است.
شرکت دولتی تجهیزات میکروالکترونیک شانگهای ((SMEE که امید چین برای توسعه سیستم‌های لیتوگرافی پیشرفته آن است، هنوز از همتایان جهانی خود مانند ASML بسیار عقب است. به گفته کارشناسان، این شرکت که در دسامبر ۲۰۲۲ توسط ایالات متحده به لیست سیاه تجاری اضافه شد، برای غلبه بر محدودیت‌ها به پیشرفت‌هایی در چندین فناوری و شبکه‌های تامین کننده نیاز دارد.
اما SMEE با وجود تحریم‌ها پیشرفت‌هایی داشته است. این شرکت در مارس سال ۲۰۲۳ یک حق اختراع برای “مولدهای تشعشعات EUV و تجهیزات لیتوگرافی” به ثبت رساند.
منبع: scmp
